Cleaning machineのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
イプロスは、 製造業 BtoB における情報を集めた国内最大級の技術データベースサイトです。

Cleaning machine×ジャパンクリエイト - メーカー・企業と製品の一覧

Cleaning machineの製品一覧

1~13 件を表示 / 全 13 件

表示件数

Wafer Automatic Cleaning Device 300mm Wafer Automatic Cleaning Device

Demo units available for loan! This is a cassette-type batch cleaning device that can accommodate up to Φ300.

The 300mm wafer automatic cleaning device is a cassette-type batch cleaning system. It can accommodate up to Φ300. For more details, please contact us.

  • Other semiconductor manufacturing equipment

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

Wafer automatic cleaning device, sheet-type automatic cleaning device, spray type.

Demo units available for loan! We offer cleaning methods tailored to various processes (hoop compatibility available).

The sheet-type automatic cleaning device is a cleaning device that addresses spray-type cross-contamination in a sheet format. It is provided with cleaning methods tailored to various processes (hoop compatibility available). For more details, please contact us.

  • Other semiconductor manufacturing equipment

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

Etching equipment, wafer cleaning equipment

【Demo unit available for loan!】A semi-automatic device that transports wafers from the processing tank to the rinse tank via an arc.

This machine is a semi-automatic device that manually attaches a basket with cassettes to a hanger, transports it in an arc from the processing tank to the rinsing tank, and processes wafers. For more details, please contact us.

  • Etching Equipment

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

Semiconductor manufacturing equipment - mask automatic cleaning device

Demo units available for loan! We offer a variety of options including batch type and scrub cleaning.

This machine automatically transports masks stored in the loader, passing through each processing tank and storing them in the unloader. It supports various options such as batch type and scrub washing. Please contact us for more details.

  • Other semiconductor manufacturing equipment

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

Carrier and hoop automatic cleaning device (cassette cleaning device)

Demo units available for loan! It includes brush cleaning and fine jet cleaning.

This machine is an automatic cleaning device that precisely cleans and dries carriers and boxes stored in a basket, transporting them from the loader through each processing stage to the unloader (which also serves as the drying section). For more details, please contact us.

  • Other semiconductor manufacturing equipment

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

Single-wafer automatic cleaning device "RCA Wafer Cleaning System"

Customization is okay! We offer quick responses and after-sales support unique to manufacturers.

The "RCA Wafer Cleaning System" is an automatic cleaning device primarily based on the RCA cleaning method, widely adopted as a highly reliable cleaning method. With a "3-axis multi-joint clean robot" for wafer transport and "FOUP" used for loaders and unloaders, it achieves cleaning in a non-particle environment. 【Features】 ■ Quick response from estimates to customization ■ Support for our own equipment as well as other manufacturers' equipment ■ Detailed response to sudden specification changes *For more details, please download the catalog or contact us. 【Exhibition Information】 SEMICON Japan Location: Tokyo Big Sight Period: December 13-15, 2017 Booth Number: 3509, East Hall

  • Other semiconductor manufacturing equipment

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

CO2 spray cleaning device

The substrate size is up to φ12 inches! Using our unique CO2 rubber jet nozzle.

The "CO2 Spray Cleaning Device" allows for CO2 cleaning in a low dew point environment for cleaning in a vacuum environment. It uses our proprietary nozzle, the CO2 Rubber Jet Nozzle. The speed and density of solid CO2 particles can be varied, enabling us to propose optimal cleaning conditions. It can be used for particle removal on micro lenses, removal of sputter residues, and improvement of wettability. 【Features】 ■ Our proprietary nozzle: CO2 Rubber Jet Nozzle ■ Cleaning in a vacuum environment ■ Damage-free dry cleaning is possible ■ Maximum substrate size is φ12 inches ■ Handheld spray unit available for sale *For more details, please refer to the PDF document or feel free to contact us.

  • スクリーンショット 2021-06-23 090652.png
  • スクリーンショット 2021-06-23 090724.png
  • スクリーンショット 2021-06-23 090733.png
  • スクリーンショット 2021-06-23 090745.png
  • スクリーンショット 2021-06-23 090757.png
  • スクリーンショット 2021-06-23 090804.png
  • Other cleaning machines

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

Cassette-less automatic cleaning device

Demo units available for loan! Various designs can also be produced according to user specifications!

The cassette-less automatic cleaning device is a precision cleaning processing device that performs a consistent process from workpiece input to drying. The equipment can be selected with a cassette-less, boat transport method, and various designs can be manufactured according to the user's specifications.

  • Other semiconductor manufacturing equipment

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

Wafer automatic cleaning device, cassette-less automatic cleaning device.

Demo units available for loan! We also create various designs tailored to user specifications.

The cassette-less automatic cleaning device is a precision cleaning processing device that performs a consistent process from workpiece input to drying. The equipment can be selected with a cassette-less, boat transport method, and various designs can be manufactured according to user specifications. For more details, please contact us.

  • Other semiconductor manufacturing equipment

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

Wafer automatic cleaning device, sheet-type automatic cleaning device, dip type.

Demo units available for loan! This is a sheet-type cleaning device that can accommodate up to Φ300.

This machine is a dip-type single-sheet processing machine that vertically lifts the workpiece in the loader section and performs each processing step with a transport robot. After the final cleaning is completed, the workpiece is returned horizontally by the inversion mechanism, and spin drying is performed. It is a cassette-to-cassette cleaning machine. For more details, please contact us.

  • Other semiconductor manufacturing equipment

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

Semiconductor manufacturing equipment automatic quartz tube cleaning device

Demo units available for loan! We will accommodate according to the shape of the quartz tube, so please consult with us.

The cleanliness of the quartz tubes used in the manufacturing process of wafers greatly affects the quality of the products. Therefore, the cleaning of quartz tubes used in the diffusion process, CVD process, and annealing process is an important point. Japan Create Co., Ltd. provides quartz tube cleaning equipment that meets customer needs based on many years of experience and achievements. There are two types of systems: horizontal and vertical, and we can accommodate the shape of the quartz tubes, so please consult with us. For more details, please contact us.

  • Other semiconductor manufacturing equipment

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

Single Leaf Spin Spray Cleaning Device SRC-15001

High-pressure pure water is sprayed from a 2-fluid nozzle, followed by finishing cleaning with megasonic!

SRC-15001 is a sheet-type spray cleaning device. Place the item to be cleaned on the sample table, and by turning ON the start switch, the sample table begins to rotate while the nozzle arm swings the radius of the cleaning item, spraying high-pressure pure water from a two-fluid nozzle. Next, finishing cleaning is performed using megasonic waves, followed by spin drying. For more details, please contact us or refer to the catalog.

  • Coater
  • Other semiconductor manufacturing equipment

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

Single-wafer automatic cleaning device "RCA Wafer Cleaning System"

Customization is OK! We offer quick responses and after-sales support unique to manufacturers.

The "RCA Wafer Cleaning System" is an automatic cleaning device primarily based on RCA cleaning, widely adopted as a highly reliable cleaning method. It features a "3-axis multi-joint clean robot" for wafer transport and a "FOUP" used in the loader and unloader, achieving cleaning in a non-particle environment. 【Features】 ■ Quick response from quotes to customization ■ Support for not only our own equipment but also for other manufacturers' equipment ■ Detailed response to sudden specification changes *For more details, please download the catalog or contact us.

  • Other semiconductor manufacturing equipment

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録